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  • 電子級三甲基氯硅烷工藝裝置 查看詳細介紹

    電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產品,裝置非標采用耐腐蝕材質。PLC 系統(tǒng)采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動化程度高,數(shù)據(jù)精確度及重復性好,安全可靠 并能長周期穩(wěn)定運行

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質:生產廠家

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  • 超臨界高溫高壓反應釜 查看詳細介紹

    超臨界高溫高壓反應釜,主要用來評價、研究工藝過程,探索最佳工藝參數(shù),經取樣分析、評價、數(shù)據(jù)處理,獲取產品分布、產品性質等數(shù)據(jù),為中試及工業(yè)化工藝設計提供設計基礎數(shù)據(jù)。 裝置非標采用耐腐蝕材質,裝置采用 PLC 控制系統(tǒng),配置多級關鍵的保護系統(tǒng),確保裝置的設備和操作人員的安全。

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質:生產廠家

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  • 連續(xù)式反應器 查看詳細介紹

    連續(xù)式反應器,主要用來評價、研究工藝過程,探索最佳工藝參數(shù),經取樣分析、評價、數(shù)據(jù)處理,獲取產品分布、 產品性質等數(shù)據(jù),為中試及工業(yè)化工藝設計提供設計基礎數(shù)據(jù)。裝置的整體水平要求自動化程度高,數(shù)據(jù)精確度及重復性好,安全可靠并能長周期穩(wěn)定運行。

    更新時間:2024-05-23

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  • 光催化膜分離裝置 查看詳細介紹

    光催化膜分離裝置是一套高效的反應釜評測系統(tǒng)。系統(tǒng)包括氣體控制模塊,溫度控制模塊、反應釜模塊、液體模塊等。 系統(tǒng)為用戶的原料相態(tài)提供選擇,1路氣體或者是氣體和液體的組合。液體通過反應釜上加料罐或者液體泵輸送到反應器前的催化劑罐中。對于液態(tài)的原料,它經由專用工具及專人,裝入反應釜裝置內。

    更新時間:2024-05-23

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  • 濕式氧化實驗裝置 查看詳細介紹

    濕式氧化實驗裝置,具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環(huán)形永磁驅動靜密封,攪拌力強,無泄露。適用于石油,化工,制藥,染料,軍工,礦冶,食品等行業(yè)的科研院所,和大專院校的科研領域,尤其適用于大專院校對學生進行示范性試驗。

    更新時間:2024-05-23

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